Name: 10x10x0.3 мм Лабораторно выращенные алмазные семена грубая СВД алмазная пластина механического класса
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: JSD
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

Главная страница Продукция Механический CVD Diamond

10x10x0.3 мм Лабораторно выращенные алмазные семена грубая СВД алмазная пластина механического класса

10x10x0.3mm Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Plate Mechanical Grade

Подробная информация о продукте:

Место происхождения:	Хунань, Китай
Фирменное наименование:	Infi
Номер модели:	JSD

Оплата и доставка Условия:

Количество мин заказа:	10 PCS
Цена:	To be negotiated
Упаковывая детали:	упаковано в коробку, затем в картонную коробку
Время доставки:	7 рабочих дней
Условия оплаты:	T/T, Western Union, Paypal
Поставка способности:	100 шт/7 дней

контакт

Подробное описание продукта

Размер:	10х10х0,3 мм	Цвет:	Без цвета
Наименование продукта:	Cvd Алмазный пластинка	Твердость (микротвердость):	80 ≈ 150 ГПа
Модуль Янга:	1150 ‰ 130 OGPa	Коэффициент теплового расширения:	10-.К-I
коэффициент трения:	0.05 ~ 0.05	Теплопроводность:	1500-2000 w/ (m·K)
Выделить:	10x10x0.3 мм Лабораторно выращенные алмазные семена , Необработанные алмазные семена , выращенные в лаборатории

10x10x0.3 мм Заготовки алмазов, выращенных в лаборатории, шероховатые, CVD алмазные пластины, механический сорт

Спецификации продукта

Атрибут	Значение
Размер	10x10x0.3 мм
Цвет	Бесцветный
Название продукта	CVD алмазная пластина
Твердость (микротвердость)	80～150 ГПа
Модуль Юнга	1150～1300 ГПа
Коэффициент теплового расширения	10^-6K^-1
Коэффициент трения	0.05~0.05
Теплопроводность	1500-2000 Вт/(м·К)

Описание продукта

Однокристаллический алмаз CVD (химическое осаждение из паровой фазы) относится к типу алмаза, полученному с использованием процесса CVD. В этом процессе смесь газообразных веществ, содержащих углерод, разлагается в контролируемых условиях, что приводит к образованию слоя монокристаллического алмаза на подложке.

Свойства монокристаллического алмаза CVD

По сравнению с другими формами синтетического алмаза, монокристаллический алмаз CVD имеет высокоупорядоченную кристаллическую структуру, что придает ему превосходные физические и механические свойства. Это делает его идеальным для высокопроизводительных применений, где твердость и теплопроводность являются критическими факторами.

Алмазный материал обладает самой высокой теплопроводностью среди известных природных материалов (до 2200 Вт/(м·К) - в 7,5 раз больше, чем у AIN, и в 4,5 раза больше, чем у SiC). В сочетании со стабильными химическими свойствами, высокой изоляцией и малой диэлектрической проницаемостью монокристаллический алмаз является лучшим материалом для электронных устройств следующего поколения с высокой мощностью, высокой частотой и низкой мощностью.

Процесс производства

Используя микроволновую плазменно-ассистированную химическую конденсацию из паровой фазы (MPACVD), микроволновая резонансная система разлагает газообразный углеродсодержащий газ и коррозионный газ при низком/среднем давлении для генерации плазмы. Наша стратегия роста обеспечивает гомоэпитаксиальный рост в направлениях роста 100, 110 и 111 для зародышевых кристаллов алмаза типа IIb.

Доступные размеры

3x3x0.3 мм
4x4x0.3 мм
5x5x0.3 мм
6x6x0.3 мм
7x7x0.3 мм
8x8x0.3 мм
9x9x0.6 мм
10x10x0.3 мм
11x11x0.3 мм
12x12x0.3 мм
13x13x0.3 мм
15x15x0.3 мм

Основные характеристики

Положительный допуск по длине, ширине и толщине
Отсутствие поликристаллических черных пятен или трещин при увеличении 20x
Прецизионная резка без пропусков углов
Равномерное распределение напряжений под поляризатором
Ориентация 4pt/100
Края, вырезанные лазером, с <100> ориентацией края
Ориентация поверхности {100}
Допуск L + W (0, +0,3 мм), допуск по толщине (0, +0,1 мм)
Варианты поверхности: Две стороны полированные (Ra < 20 нм), одна сторона полированная или неполированная
Концентрация бора <0.05 ppm
Концентрация азота <20 ppm